等离子增强化学气相 等离子增强化学气相沉积设备 电子工业生产设备招标采购公告（中国科学院微电子研究所2026）
中国科学院微电子研究所2026年7月政府采购意向-等离子增强化学气相沉积设备 详细情况
等离子增强化学气相沉积设备
项目所在采购意向：
中国科学院微电子研究所2026年7月政府采购意向
采购单位：
中国科学院微电子研究所
采购项目名称：
等离子增强化学气相沉积设备
预算金额：
3600.000000万元(人民币)
采购品目：
A02330300电子工业生产设备
采购需求概况 ：
用于生长逻辑芯片制造中最核心的6类介质与半导体薄膜，具体包括：二氧化硅（SiO）、氮化硅（SiN）、氮氧化硅（SiON）、碳掺氧化硅（SiCO）、先进图形化膜（APF）以及非晶硅（a-Si）。这6类薄膜分别承担绝缘隔离、刻蚀阻挡/钝化保护、抗反射层、低介电常数（低k）延迟减小、光刻图形化辅助以及结构支撑等关键功能，贯穿逻辑芯片从前端器件到后端互连的全流程。
预计采购时间：
2026-07
备注：
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
投标 / 标书制作要点（原创）
本等离子增强化学气相 等离子增强化学气相沉积设备 电子工业生产设备涉及「招标采购公告」，投标方需重点关注：① 营业执照经营范围须含招标采购公告或对应服务类目；② 提供同类项目业绩证明；③ 报价方案与售后响应须明确；④ 紧盯投标截止与开标节点，建议提前完成标书制作与盖章。当地项目常要求本地化服务能力与快速响应，务必在投标文件中凸显。
标书制作联系冯经理：17551026086
