光刻机 磁控溅射系统 电子束蒸发系统招标预告（2023）

南京邮电大学2023年4月(第3批)政府采购意向公告为便于供应商及时了解政府采购信息，根据《江苏省财政厅关于做好意向公开工作的通知》等有关规定，现将南京邮电大学2023年4月(第3批)政府采购意向公告如下：编号项目名称采购需求概况采购预算(万元)预计采购月份是否专门面向中小企业采购是否采购节能产品、环境标志产品备注1南京邮电大学集成电路科学与工程学院光刻机光刻机是将各种特定结构的微纳结构图形转移至半导体芯片表面上的大型精密仪器设备，是各种微纳器件、半导体集成电路、LED平板显示器、太阳能电池等制备工艺过程中的核心设备。2402023-04是否2南京邮电大学集成电路科学与工程学院磁控溅射系统采用物理方法将材料源气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体（或等离子体）的过程，在硅片等半导体器件基体表面沉积成薄膜(如金属、半导体、电介质薄膜)。以开展半导体器件、太阳能电池、微波、射频、发光等方向的研究。2002023-04是否3南京邮电大学集成电路科学与工程学院电子束蒸发系统 (PVD)是化合物半导体器件制作中的一种重要工艺技术。它是在高真空状态下由电子束加热坩埚中的金属，使其熔融后蒸发到所需基片上形成金属膜。可蒸发很多难熔金属或者蒸汽压低的金属材料，包括Ti, Al, Ni, Au, Pt, Al2O3,等。2002023-04是否4南京邮电大学集成电路科学与工程学院等离子体增强化学气相沉积系统(PECVD)PECVD技术是借助于辉光放电等离子体使含有薄膜组成的气态物质发生化学反应，从而实现薄膜材料生长的一种新的制备技术，主要用于二氧化硅，氮化硅等介质薄膜淀积。3502023-04是否5南京邮电大学集成电路科学与工程学院反应离子刻蚀系统 (RIE)RIE是制作半导体集成电路的蚀刻工艺之一。在除去不需要的集成电路板上的保护膜时，利用反应性气体的离子束，切断保护膜物质的化学键，使之产生低分子物质，挥发或游离出板面，主要用于二氧化硅，氮化硅等介质薄膜刻蚀。1102023-04是否6南京邮电大学集成电路科学与工程学院快速退火炉(RTA)是利用红外灯管加热技术和腔体冷壁技术，实现快速升温和降温，从而实现特定热处理工艺。其主要应用于集成电路领域半导体器件制备等。1202023-04是否7高压高温射频探针台主要用于半导体器件电学等性能测试。1702023-04是否本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。南京邮电大学2023年04月19日

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投标 / 标书制作要点（原创）

本光刻机 磁控溅射系统 电子束蒸发系统涉及「招标预告」，投标方需重点关注：① 营业执照经营范围须含招标预告或对应服务类目；② 提供同类项目业绩证明；③ 报价方案与售后响应须明确；④ 紧盯投标截止与开标节点，建议提前完成标书制作与盖章。当地项目常要求本地化服务能力与快速响应，务必在投标文件中凸显。

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