天津RIE反应离子刻蚀机中标结果公示（天津大学2025）

天津大学-结果公告(CB100562022001448)
申购单号：CB100562022001448成交总额：198000.00
申购主题：RIE反应离子刻蚀机 送货时间：合同签订后7天内送达
采购单位：天津大学 安装要求：免费上门安装（含材料费）
竞价开始时间：2022-12-12 19:02:51 收货地址：
竞价截至时间：2022-12-13 19:12:48
币种：人民币
付款方式：货到验收合格后付款
备注说明：22DK100952
质疑说明：如果对成交结果有异议，请在发布成交结果之日起三个工作日内向采购单位提出质疑
竞价结果：
采购项：RIE反应离子刻蚀机 品牌： 无 型号： RIE200plus
成交总价：198000.00
成交供应商：华仪行（北京）科技有限公司
质保及售后服务： 按行业标准提供服务（提供本地化安装调试及售后服务）
技术参数： 型号：RIE200plus PLC工控机控制，7寸彩色触摸屏互动操作界面，图形化操作界面显示，自动监测工艺参数状态，0~99配方程序，可存储、输出、追溯工艺数据，机器运行、停止提示。 手动、自动两种工作模式。全真空管路系统采用316不锈钢材质。 采用防腐数字流量计控制，标配双路气体输送系统，可选多气路气体输送系统，可输入氧气、氩气、氮气、四氟化碳、氢气或混合气等气体。 具备HEPA高效过滤气体返填吹扫功能。 人体功能学的60度倾角操作界面设计，操作方便，界面友好。 316不锈钢、航空铝真空仓选择。 采用顶置真空仓，上开盖设计，下压式铰链开关方式。上置式360度水平取放样品设计。 最大处理直径200mm晶元硅片。 安全保护，仓门打开，自动关闭电源。 舱体内尺寸：H38xΦ260mm。 舱体容积：2L。 射频电源：13.56MHz，射频功率10-300W无极可调。 电极：不锈钢气浴RIE电极，Φ200mm。 自动匹配器。 RIE刻蚀方式。 气体控制：质量流量计（MFC）（标配双路，可选多路）流量范围0-500SCCM（可调）。 工艺气体选择：Ar、N？、O？、H？、CF4、CF4+ H2、CHF3或其他混合气体等（可选）。 时间设定1-99分59秒。真空泵：Edwards爱德华真空泵 RV3双级旋片泵，抽速：8m3/h，极限真空≤1Pa。 气体稳定时间：1分钟

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投标 / 标书制作要点（原创）

本RIE反应离子刻蚀机涉及「中标结果公示」，投标方需重点关注：① 营业执照经营范围须含中标结果公示或对应服务类目；② 提供同类项目业绩证明；③ 报价方案与售后响应须明确；④ 紧盯投标截止与开标节点，建议提前完成标书制作与盖章。天津项目常要求本地化服务能力与快速响应，务必在投标文件中凸显。

标书制作联系冯经理：17551026086